技術(shù)支持
光學(xué)系統(tǒng)的成像及其質(zhì)量評(píng)價(jià)是傳統(tǒng)光學(xué)研究的一個(gè)中心問(wèn)題.我們知道光學(xué)系統(tǒng)對(duì)擴(kuò)展物體所成的像,則是對(duì)應(yīng)于構(gòu)成物體的所有點(diǎn)的衍射斑的疊加.對(duì)于相于成像系統(tǒng),像的復(fù)振幅分布是所有衍射斑的復(fù)振幅分布的線性疊加;對(duì)于非相于成像系統(tǒng),像的強(qiáng)度分布是衍射斑強(qiáng)度分布的線性疊加.
通俗意義上講,曝光就是描述圖像的明暗程度的詞匯,照片太暗稱為曝光不足,照片太亮叫做過(guò)度曝光.曝光由三個(gè)因素影響,分別為光圈,快門,ISO.
緩沖技術(shù)是為了協(xié)調(diào)吞吐速度相差很大的設(shè)備之間數(shù)據(jù)傳送而采用的技術(shù).
光虎光學(xué)現(xiàn)有φ110mm視野和φ85mm視野的遠(yuǎn)心光源,后續(xù)會(huì)推出更多視野型號(hào)的遠(yuǎn)心光源.
遠(yuǎn)心鏡頭的主要作用之一就是作為測(cè)量鏡頭使用,它的主要特點(diǎn)是在遠(yuǎn)心視角下,沒(méi)有入射角引起的測(cè)量誤差,與標(biāo)準(zhǔn)鏡頭相比,遠(yuǎn)心透視的鏡頭前面的光線與光軸平行.
2022年12月7日-9日,一年一度日本國(guó)際畫像機(jī)器展在橫濱會(huì)展中心召開(kāi).光虎光學(xué)日本公司也參展并展出了光虎今年升級(jí)后的新產(chǎn)品.
定心的目的是使中心線與機(jī)械中心線合而為一,另一功能則是控制鏡片的外徑達(dá)到公差配合.
太陽(yáng)能是一種清潔和有吸引力的替代電力來(lái)源。對(duì)光伏組件的需求不斷增加,在太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換方面,光伏組件更便宜、效率更高。太陽(yáng)能電池是太陽(yáng)能發(fā)電系統(tǒng)的基礎(chǔ),通常由晶體硅組成。在晶體硅器件中,由微裂紋引起的太陽(yáng)能電池板破裂可導(dǎo)致重大問(wèn)題,并極大影響模塊性能。這些結(jié)構(gòu)缺陷可能源于硅加工方面的挑戰(zhàn)、晶體晶格的質(zhì)量或其他外部影響。為了解決這些問(wèn)題,近年來(lái),一系列基于相機(jī)檢測(cè)系統(tǒng)的光發(fā)射診斷和質(zhì)量控制工具發(fā)展迅速。
PIV,全名:Particle Image Velocimetry,又稱為粒子圖像測(cè)速法,是七十年代末發(fā)展起來(lái)的一種瞬態(tài)、多點(diǎn)、無(wú)接觸式的流體力學(xué)測(cè)速方法。PIV結(jié)合了流動(dòng)可視化和圖像處理技術(shù)來(lái)測(cè)量流場(chǎng)速度,技術(shù)通過(guò)對(duì)各種流的可視化圖像進(jìn)行圖像分析,給出了流速、溫度和密度的信息。
光學(xué)鍍膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ),在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程.光學(xué)膜層首先是厚度薄,其厚度可以和入射光波長(zhǎng)相比擬,其次是會(huì)產(chǎn)生一定光學(xué)效應(yīng)引起光線干涉.
工業(yè)鏡頭是機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)中十分重要的成像元件,系統(tǒng)若想完全發(fā)揮其作用,工業(yè)鏡頭必須能夠滿足要求才行.隨著機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)在精密測(cè)量領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,普通工業(yè)鏡頭難以滿足要求,而遠(yuǎn)心鏡頭應(yīng)運(yùn)而生.
評(píng)價(jià)工業(yè)相機(jī)的質(zhì)量,除了其出色的成像和超低的價(jià)格之外,還包括穩(wěn)固的外殼,嬌小的尺寸,高傳輸速率,先進(jìn)的算法技術(shù)等